ASML如何成为光刻机龙头的？又为何急于升级 EUV 光刻 ...(1/17)

光源采用13.5nm的极紫外光，这种光取得极为不易，破坏性极高，却又极易容易被干扰。需求功率30KW，频率5万/次的激光束轰击下落的锡珠才干取得。镜片由德国蔡司打造，请求平整度抵达皮米级别。什么意义呢？相当于手电照到月球光斑不超越一枚硬币大小，或者从北京到上海的铁轨起伏不超越1毫米。最终，在台积电、三星、英特尔的助力下，ASML胜利的研发出了EUV光刻机，将芯片制程推进到了7nm ... [查看原文]

标签： 积家

全部图片

查看原图