ASML如何成为光刻机龙头的？又为何急于升级 EUV 光刻 ...(1/17)

上海微电子曾经量产90nm光刻机，90nm光刻机在经过三次曝光后，能够制造28nm芯片。但距离最先进的3nm还差4代。假如能够再进一步研发出45nm光刻机，三次曝光后就能够制造7nm芯片，就能满足国内智能手机、笔记本、智能穿戴的需求，因而国内多个机构加快了零部件的研发速度。例如：清华大学朱煜教授带领的团队胜利研发出了双工作台光刻机，中国曾经成为全球第二个控制双工作台的国度；中科院 ... [查看原文]

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