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回想起风流的父亲,徐志摩之子如此评价,果真有其父必有其 ...
2003年,ASML推出了首台浸润式光刻机,第二年又推出了改进版,波长为132nm。而尼康不只慢了一年,而且波长为157nm。随后,依托浸润式的技术优势,ASML一举拿下了65nm、45nm、32nm工艺制程,将摩尔定律向前推进了三代,ASML也超越了尼康成为了最先进的光刻机制造公司。芯片制造的终极武器“EUV光刻机” [查看原文]
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