ASML如何成为光刻机龙头的？又为何急于升级 EUV 光刻 ...(1/17)

武汉光电所采用激光衍射，胜利刻出了9nm线宽的线段，完成了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的严重创新；合肥芯硕半导体、无锡影速，也完成了200nm光刻机的量产，并且积极规划下一代制程；中微公司带头破冰5nm刻蚀机，在全球刻蚀机产业中，中微公司的实力已位居一线，以至将5nm刻蚀机打入了台积电的供给链。国产光刻机在不时地突破，取得严重突破或许指日可待。之前，芯片制造对我们来说 ... [查看原文]

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