ASML如何成为光刻机龙头的？又为何急于升级 EUV 光刻 ...(1/17)

因而，蔡司能否打磨出合格的镜片，就成为了High-NA EUV 光刻机研发胜利的关键。High-NA 镜片的尺寸是之前的两倍，需求在20皮米范围内坚持平整。这需求在一个大到“能够容纳半个公司”的真空容器中中止考证，该容器位于蔡司公司。没想到芯片展开到今天，想要继续更新迭代，居然要靠一家镜片公司。ASML为何急于升级迭代EUV光刻机 [查看原文]

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