超越英特尔,追平台积电,三星的芯片制造技术如何得来 ...(1/16)

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2022-11-11 10:40 153人参与 0条评论 自动播放 开灯

超越英特尔,追平台积电,三星的芯片制造技术如何得来 ...

集中度请求:拿个手电照到月球光斑不超越一枚硬币大小;平整度请求:长30cm起伏不到0.3nm,这相当于是北京到上海做根铁轨起伏不超越1毫米。再加上低于百万分之一秒的机械误差,真空、恒温、无尘、高速运转的环境,最终招致EUV光刻机极难制造,即便是ASML的产量也少的不幸。那么这些产量极低的EUV光刻机都卖给了谁呢?台积电、三星、英特尔。 [查看原文]

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