2022年存储芯片行业深度讲演(1/7)

光刻技术由 DUV 转向 EUV。目前 DRAM 运用最为成熟的光刻技术是 193nm 的 DUV 光刻机，EUV 光刻机运用 13.5nm 波长，可经过减少光罩次数来进一步压低成本，进步精度和产能。在工艺制程抵达 14nm 后，采用 EUV 的经济性开端显现，而 DUV 需运用多重曝光（SAQP）技术才干构成更细线宽的电 路，因而成本上处于优势。目前 DRAM 厂商仍可经过工艺改进运用 DUV 消费 10+nm DRAM，未来 DRAM 消费 ... [查看原文]

标签： 积家

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