ASML正式官宣，已获5台新一代EUV光刻机订单，台积电无缘(1/8)

台积电为何无缘？ 今年台积电的技术研讨会将会在今年6月中旬召开，依据相关知情人士透露，在这次技术研讨会上，台积电将会透露N3，也就是3纳米芯片制程工艺的最新信息，以及N2，也就是2纳米芯片制程工艺的细节。从这样来看的话，目前台积电的延展重点可能是在3纳米芯片工艺制程上面，2纳米芯片似乎还不着急。而阿斯麦尔的新一代，High-Na EUV光刻机，主要针对的还是2纳米及以上工艺。就这 ... [查看原文]

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