四家半导体大厂重磅协作！计算光刻技术从幕后到台前(1/2)

△Source：英伟达官网其中，元件尺寸减少在很大水平上是由光刻工艺和技术的展开推进的。光刻阶段，晶圆会被放入光刻机中，被裸露在深紫外光（DUV）下，光线会经过“掩模版”投射到晶圆上，光刻机的光学系统将掩模版上设计好的电路图案减少并聚焦到晶圆上的光刻胶，当光线映照到光刻胶上时，会产生化学变更，将掩模版上的图案印制到光刻胶涂层上。这不是一项简单的工作，粒子干扰、折射和 ... [查看原文]

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