Intel 4，对英特尔有多重要？(1/3)

来源：英特尔Intel 4也是首个基于EUV极紫外光技术的FinFET工艺，每瓦性能可提升20%。在运用EUV后大大减少了制造芯片所需的步骤和掩膜数量。据此前披露数据，运用EUV光刻后的Intel 4所需求的掩膜数量比Intel 7 减少了20%。且Intel 4还可完成工艺层面21.5%的性能提升以及相同性能下多达40%的功耗减少。与竞争对手减少差距Intel 4的呈现，使得英特尔在先进制程范畴与台积电、三星这两大竞争 ... [查看原文]

标签： 积家

全部图片

查看原图