Nvidia声称在芯片生产速度方面有所突破(1/1)

台积电和英特尔等芯片制造商使用昂贵的光刻机，通过 "光罩 "或 "网罩 "投射光线，从而在硅晶圆上打印出图案。为了打印出纳米级的图案，半导体制造商必须依靠所谓的计算光刻技术（在新窗口中打开）或专门的计算机模型来优化光罩，防止制造过程中出现缺陷。问题是，计算光刻技术需要大量的计算和数据处理；Jensen称它是 "芯片设计和制造中最大的计算工作量"。因此，需要大规模的数据中心， ... [查看原文]

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